Краткое описание: |
Для измерений трехмерной топологии и параметров микрорельефа поверхности конденсированных сред с атомарным разрешением, применяются в микро-, опто-, наноэлектронике, нанотехнологии, микромеханике, фармацевтике и микробиологии, производстве полимеров и генной инженерии, создании наноструктурных материалов, запоминающих сред, химии и химической технологии, металлургии, в лабораториях промышленных предприятий, научно-исследовательских и учебных организаций. Диапазон измерений линейных размеров в плоскости XY не менее 80 мкм; по оси Z не менее 5 мкм. СКО, % не более 1; не более 5. |
|